反滲透設備優質供應商 10年專注標準化反滲透純水設備定制廠家

隨著信息時代的到來，作為電子工業的核心—超大規模集成電路有著巨大的市場需求。在集成電路生產的幾百道工序中，其80%以上需高純水清洗。水中的各種超微量雜質都會對產品產生重要影響。因此，VLSI和 ULSI對水質的要求成為高純水水質的極至。電子工業中其他部門對純水和超純水均有著廣泛的需求，如彩色顯像管的生產等等。

超純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一。超純水在電子工業主要是電子元器件生產中的重要作用日益突出。半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備，這是一種制取超純水的首選工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝。

電子工業用超純水的應用領域

1)半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路。

2)超純材料和超純化學試劑。

3)實驗室和中試車間。

4)汽車、家電表面拋光處理。

5)光電產品。

6)其他高科技精微產品。

制備電子工業用超純水的工藝流程

電子行業制備超純水的工藝大致分成以下幾種：

方案一：

預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥15 MΩ•cm)

方案二：

預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-二級反滲透-純水箱-純水泵-EDI裝置-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥17 MΩ•cm)

方案三：

預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(≥18 MΩ•cm)

在電子光學超純水設備設計上，通常采用成熟、可靠、先進、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝;或者是全膜法處理工藝：UF+二級RO+EDI+拋光混床。確保處理后出水電阻率達到18 MΩ•cm以上。